<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><rss version="2.0"
	xmlns:content="http://purl.org/rss/1.0/modules/content/"
	xmlns:wfw="http://wellformedweb.org/CommentAPI/"
	xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
	xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom"
	xmlns:sy="http://purl.org/rss/1.0/modules/syndication/"
	xmlns:slash="http://purl.org/rss/1.0/modules/slash/"
	 xmlns:media="http://search.yahoo.com/mrss/" >

<channel>
	<title>表面汙染 &#8211; 相弘科技 &#8211; MetroCanS</title>
	<atom:link href="https://metrocans.com.tw/product-category/%E5%9C%B0%E7%AB%AF%E9%87%8F%E6%B8%AC%E8%A8%AD%E5%82%99/%E8%A1%A8%E9%9D%A2%E6%B1%99%E6%9F%93/feed/" rel="self" type="application/rss+xml" />
	<link>https://metrocans.com.tw</link>
	<description></description>
	<lastBuildDate>Tue, 15 Oct 2024 08:00:41 +0000</lastBuildDate>
	<language>zh-TW</language>
	<sy:updatePeriod>
	hourly	</sy:updatePeriod>
	<sy:updateFrequency>
	1	</sy:updateFrequency>
	

<image>
	<url>https://metrocans.com.tw/wp-content/uploads/2024/07/cropped-公司Logo-32x32.png</url>
	<title>表面汙染 &#8211; 相弘科技 &#8211; MetroCanS</title>
	<link>https://metrocans.com.tw</link>
	<width>32</width>
	<height>32</height>
</image> 
	<item>
		<title>XRF元素分析儀</title>
		<link>https://metrocans.com.tw/product/xrf%e5%85%83%e7%b4%a0%e5%88%86%e6%9e%90%e5%84%80/</link>
		
		<dc:creator><![CDATA[MetroCanS]]></dc:creator>
		<pubDate>Mon, 29 Jul 2024 13:19:48 +0000</pubDate>
				<guid isPermaLink="false">https://metrocans.com.tw/product/%e5%be%ae%e7%b2%92%e5%ad%90%e6%aa%a2%e6%b8%ac%e8%a8%ad%e5%82%99-copy-2/</guid>

					<description><![CDATA[<strong>技術原理 &#124;</strong> 利用高能X射線激發樣品放出特定元素的螢光，用以定性定量分析

<strong>應用 &#124;</strong> 零件表面微汙染(製程殘留汙染/副產物)檢測、元素分析

<strong>設計目的</strong> <strong>&#124;</strong>

CVD製程與蝕刻製程腔體內，由於會使用特氣及化學品，常見副產物與殘留汙染留在腔體重要零配件上，進而影響到製程之均勻性及良率，包含包括膜厚度、均勻性、偏移率和NH3流量等

<strong>系統特色 &#124;</strong>
<ul>
 	<li>非破壞性，精準無損檢測</li>
 	<li>廣泛元素檢測，含銅(金屬污染)、氟(清洗殘留)</li>
</ul>
<strong>實績案例&#124;</strong>
<ul>
 	<li>以FCVD製程應用為例，會造成Dep.與Clean過程中，RPS腔體內部和零配件表面會受到電漿中H和F的影響，如Dome表面的化學組成會造成表面粗糙度與反射率改變，進而到製程結果。透過工件元素濃度分布檢測 了解半導體零件氟殘留，掌握零配件性能，進而調整符合現場的配方要求，穩定製程結果</li>
</ul>
<strong>客戶效益 &#124;</strong>
<ul>
 	<li>建立精準PM&#38;PAR 指標</li>
 	<li>節省調機人力</li>
 	<li>降低監控負擔 提高量測產能</li>
 	<li>增加tool uptime 不塞貨</li>
</ul>
<!-- notionvc: cdbae62e-6ef5-4ed0-9f81-abadf9b652b8 -->]]></description>
										<content:encoded><![CDATA[<strong>技術原理 &#124;</strong> 利用高能X射線激發樣品放出特定元素的螢光，用以定性定量分析

<strong>應用 &#124;</strong> 零件表面微汙染(製程殘留汙染/副產物)檢測、元素分析

<strong>設計目的</strong> <strong>&#124;</strong>

CVD製程與蝕刻製程腔體內，由於會使用特氣及化學品，常見副產物與殘留汙染留在腔體重要零配件上，進而影響到製程之均勻性及良率，包含包括膜厚度、均勻性、偏移率和NH3流量等

<strong>系統特色 &#124;</strong>
<ul>
 	<li>非破壞性，精準無損檢測</li>
 	<li>廣泛元素檢測，含銅(金屬污染)、氟(清洗殘留)</li>
</ul>
<strong>實績案例&#124;</strong>
<ul>
 	<li>以FCVD製程應用為例，會造成Dep.與Clean過程中，RPS腔體內部和零配件表面會受到電漿中H和F的影響，如Dome表面的化學組成會造成表面粗糙度與反射率改變，進而到製程結果。透過工件元素濃度分布檢測 了解半導體零件氟殘留，掌握零配件性能，進而調整符合現場的配方要求，穩定製程結果</li>
</ul>
<strong>客戶效益 &#124;</strong>
<ul>
 	<li>建立精準PM&#38;PAR 指標</li>
 	<li>節省調機人力</li>
 	<li>降低監控負擔 提高量測產能</li>
 	<li>增加tool uptime 不塞貨</li>
</ul>
<!-- notionvc: cdbae62e-6ef5-4ed0-9f81-abadf9b652b8 -->]]></content:encoded>
					
		
		
			</item>
	</channel>
</rss>
