化學氣相沉積 CVD
Step 1 從製程痛點出發
從製程痛點出發
化學氣相沉積CVD製程問題與挑戰
化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition, CVD）是一種常用的薄膜沉積技術。在CVD製程中，有一些常見的製程瓶頸問題：
- 氣體傳輸和分佈問題：CVD製程中所需的化學氣體需要均勻地分佈在反應腔中。若氣體流量擴散不均勻，可能導致薄膜厚度不均或沉積速度變化。
- 反應控制和管理：CVD製程需要精確電漿源控制以激發反應物分子度。如果控制不精確，會影響沉積薄膜的質量和均勻性
- 零配件匹配度與處理：腔體內零配件的表面狀況（如製程污染或表面粗糙度、零件氟殘留）對薄膜沉積質量有重大影響。因此，零配件的前處理（如下機清洗）也必須對於製程反應至關重要。
Step 2
建立檢測手法並取得數據
在CVD製程中，有諸多零配件會直接影響製程反應，並對於沉積薄膜的質量和均勻性產生重大影響。因此，我們透過對製程零配件，諸如氣體分配器(Showerhead / GDP)、電漿源與製程零件套件(Process Kit)等，進行詳細物理性質檢測，包括輪廓、表面粗糙度、汙染物殘留等物性。
Step 3
零件檢測數據可視化 | 電子化履歷
在CVD製程中，有諸多零配件會直接影響製程反應，並對於沉積薄膜的質量和均勻性產生重大影響。因此，我們透過對製程零配件，諸如氣體分配器(Showerhead / GDP)、電漿源與製程零件套件(Process Kit)等，進行詳細物理性質檢測，包括輪廓、表面粗糙度、汙染物殘留等物性。
客戶見證效益
- 提升製程穩定性和一致性：確保腔體中的流量分布，從而提升晶圓厚度均勻度
- 減少製程變異，降低生產成本：減少因零件導致的製程變異而引起的不良品率，降低生產成本。
- 支援客戶的前後站integration需求：支援客戶的前後站integration需求，快速適應不同的製程要求，提高產品快速上市的能力。
- 了解零配件物性與製程關聯：通過精確了解零配件的物性，並評估其對製程的關聯性，是保證製程穩定性的關鍵。