彩色共扼焦(CC)
技術原理 | 共焦成像色散分析
應用 |
1. 表面粗糙度分析:
利用共焦成像色散分析技術,精確測量半導體零件表面的粗糙度,以確保表面外觀輪廓符合需求。
2. 表面輪廓測量:
透過色散分析捕捉和分析半導體零件的表面輪廓,包括微細的曲率和結構特徵。
3. 零件變形量拓樸分析:
分析半導體零件的形狀變化和特徵,用於驗證零件在加工或使用過程下的性能。
系統特色 |
1. 高解析度共焦成像:
提供高解析度的共焦成像功能,精確觀察零件微觀層面的表面特徵和結構。
2. 非接觸測量:
實現非接觸式測量,避免對被測工件的損傷,適合高精密零件。
3. 自動化測量和可視化:
自動掃描和測量,並通過直觀的可視化界面呈現數據,提高操作效率。